据路透社和科技媒体The Information报道，中国已经开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机。这可能成为北京降低半导体设备对外依赖的重要一步。路透社7月28日星期二援引一名了解这一敏感项目的人士称，国有的上海爱声纳电子技术集团正在牵头推进生产工作。
The Information最先报道，一家获得国家支持的上海制造商已经进入生产阶段，计划在2026年制造约五套系统，并在2027年制造约二十套。路透社随后确认这家公司是爱声纳。首批设备预计今年交付给中芯国际、华虹半导体和存储芯片制造商长鑫存储，不过这三家公司均未证实相关安排。
浸没式DUV系统把电路图形投射到硅晶圆上，至今仍是芯片产业的关键工具。这类设备一次曝光可以形成二十八纳米级特征，也能通过多重图形化支持更小的工艺节点，但更复杂的流程可能降低良品率。主导这一市场的荷兰供应商ASML表示，其最新浸没式平台在大规模生产中每小时可处理三百多片晶圆，套刻精度低于一纳米。
路透社称，爱声纳吸收了上海宇量昇科技和上海微电子装备的相关团队。该社查阅的企业记录显示，爱声纳成立于2023年8月，注册资本七十亿元人民币，约合十亿美元，两名股东均为国有机构。专业媒体还报道，设备的大部分零部件来自中国国内，但部分关键部件仍由日本供应商提供，本地供应延误也限制了今年的产量。
这一进展尚不能证明中国已经能够追上ASML，也不能证明这些设备能够在商业晶圆厂可靠运行。路透社指出，相关机器仍需进一步测试，与荷兰竞争产品相比还有明显差距。Tom's Hardware表示，在正常运转的制造厂完成设备验证可能需要数月。与此同时，ASML把DUV称为产业主力，并继续提高自家平台的性能与产能。
尽管如此，如果西方政府进一步限制设备出口或维护服务，该项目仍可能为中国芯片制造商提供替代来源。中国无法购买ASML最先进的极紫外光刻系统，荷兰的出口管制也覆盖部分先进DUV设备。接下来的直接考验是爱声纳能否按计划交付，以及中芯国际、华虹和长鑫能否在不牺牲可靠性、吞吐量和芯片良率的情况下完成设备验证。
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